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半导体5纳米制程有太多技术挑战,成本之高超乎你想象!
半导体业自28纳米进步到22/20纳米,受193i光刻机所限,必须采用两次图形曝光技术(DP),再进一步至16/14纳米时大多采用finFET技术。如今finFET技术也一代一代升级,加上193i的光学技术延伸,采用SADP,SAQP等,所以未来10纳...
中国大基金就像彩票,半导体业者要怎么做才能中奖?
为扶植本土半导体产业,中国祭出了“大基金”策略,但那就像是福利彩票,尽管巨额资金吸引半导体业者跃跃欲试,却不知道如何能赢。 中国晶圆代工大厂中芯国际(SMIC)提供自家的案例:该公司取得了65纳米与45纳米工艺技术授权以求快速上市,却没有修改工艺技术的权力、不能创造具附加价值的...
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